Очищающая пузырьковая маска для лица SHIK обеспечивает глубокое очищение кожи благодаря активной пузырьковой технологии. Маска начинает пузыриться при контакте с воздухом, что способствует эффективному удалению загрязнений и излишков жира с поверхности кожи. В её составе присутствуют компоненты, которые способствуют сужению пор и улучшению текстуры кожи. Маска оставляет кожу свежей, очищенной и подготовленной к дальнейшему уходу.

Преимущества:

Глубокое очищение с помощью пузырьковой технологии.
Удаление загрязнений и излишков жира.
Сужение пор и улучшение текстуры кожи.
Оставляет кожу свежей и очищенной.
Упаковка: 22 мл.